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中文：二次掩模曝光；英文：double mask exposure

解釋
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 簡稱“二次曝光（double exposure）”。將密集掩模按照一定規則分割為兩個稀疏掩模，并采用這兩個掩模，先后對同一光刻膠層進行兩次曝光，獲得比一次曝光一塊掩模圖形更密集的圖形的技術。是一種光刻分辨率增強技術。
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