電子顯微鏡的高分辨率成像技術，如帶偏振分析的二次電子顯微鏡(SEMPA)，或光子發射電子顯微鏡(PEEM)或使用磁探針的技術(磁力顯微鏡(MFM)或自旋極化掃描隧道顯微鏡(STM)，通常局限于小的外部磁場。磁光顯微鏡沒有這樣的限制。然而，由于傳統(遠場)光學顯微鏡的橫向分辨率受到衍射的限制，大約只能達到光波長的一半，因此納米結構只能通過x射線顯微鏡或掃描近場光學顯微鏡(SNOM)在可見光范圍內成像。用于磁光研究的相當緊湊和振動隔離的特高壓室連接到配備薄膜制備設施的特高壓系統，以及用于表征薄膜結構和形態的STM和低能電子衍射(LEED)。結合極性和縱向MOKE, kerr顯微鏡和Sagnac-S ...
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