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零件標注的微鏡像素電雙重CMOS存儲器每個微鏡下面是一個由雙CMOS存儲器元件組成的記憶單元,如圖3所示。這兩個記憶單元的狀態(tài)不是獨立的,但總是互補的。如果一個元素是邏輯1,那么另一個元素是邏輯0,反之亦然。像素存儲單元的狀態(tài)對微鏡的機械位置有一定影響,但加載記憶單元并不會直接改變微鏡的機械狀態(tài)。圖3 雙CMOS像素存儲器存儲狀態(tài)和微鏡狀態(tài)雖然雙CMOS單元的狀態(tài)決定了微鏡的狀態(tài),但它不是唯一的因素。一旦微鏡方位確定,改變存儲單元的狀態(tài)不會導(dǎo)致微鏡翻轉(zhuǎn)到另一種狀態(tài)。因此,存儲狀態(tài)和微鏡狀態(tài)并不是直接聯(lián)系在一起的。微鏡時鐘脈沖-將內(nèi)存狀態(tài)轉(zhuǎn)換為微鏡狀為了將CMOS存儲器的狀態(tài)轉(zhuǎn)移到微鏡的機械位置 ...
和天空反射的鏡像表面,如水,使用位于410nm和890nm的圖像波段之間的比例自動從反射率圖像中被掩蓋。這些波長位置被設(shè)置為包含VNIR反射率極端下降的兩端,這是特定于天空相關(guān)光譜的。這種特征形狀導(dǎo)致了天空和非天空像 素之間通常非常明顯的比率差異。在我們的例子中,掩蔽閾值在1.0到2.0之間的比率范圍內(nèi)是最成功的。確定和處理可能的校正光譜:計算所有剩余像素在1126nm處的控制特征深度。所有控制特征深度在最大值的80-100%以內(nèi)的像素光譜都被提取為控制光譜集(圖3a),用于確定最終的大氣校 正光譜。連續(xù)體去除和控制特征深度的均衡分別應(yīng)用于控制集的每個頻譜。使用逐步獲得的最大值的線性插值在各自 ...
液晶層,反射鏡像素,集成電路背板(CMOS工藝)等結(jié)構(gòu)組成。SLM有著廣泛的應(yīng)用,可以用于光束轉(zhuǎn)向、分束、調(diào)焦,光鑷,脈沖整形,衍射光學(xué)等領(lǐng)域。SLM的剖面圖和相位調(diào)制原理圖如圖一所示:圖1 SLM截面圖及相位調(diào)制原理蓋板玻璃起到保護和封裝液晶的作用,針對實際使用中光源的不同波長范圍,蓋板玻璃表面鍍有相應(yīng)波長范圍的寬譜AR膜,可以大大減少反射光,提高系統(tǒng)效率。前透明電極層位于液晶層的頂部,加載有恒定電壓。液晶層是SLM中的工作物質(zhì),液晶分子的排列狀況可以在電場作用下發(fā)生變化,從而改變經(jīng)過該像素的光的相位延遲。像素位于液晶層底部,其上鍍有鋁或介質(zhì)膜的反射層,具有很高的反射效率。集成電路背板將加 ...
產(chǎn)生MEMS鏡像的穩(wěn)態(tài)模擬轉(zhuǎn)角。該設(shè)備有一個一對一的對應(yīng)的驅(qū)動電壓和角度:它是高度可重復(fù)的,沒有檢測到隨時間而發(fā)生變化。這在很大程度上是由于靜電驅(qū)動方法和單晶硅材料的選擇。鏡面運行機構(gòu)開環(huán)驅(qū)動的機械傾斜位置精度在每軸上至少14位(16384點)。對于大多數(shù)設(shè)備,每個軸上的機械傾斜范圍為-5°到+5°,這種傾斜分辨率在0.6毫米或10微弧度內(nèi)。一系列的驅(qū)動電壓對應(yīng)點對點掃描的一系列角度。Mirrorcle技術(shù)公司(MTI)的設(shè)備可以在非常寬的帶寬內(nèi)工作,從直流(它們在恒定電壓下保持位置,設(shè)備功耗幾乎為零)到幾千赫茲。這種快速和寬帶能力允許幾乎任意的波形,如矢量圖形,勻速線掃描,點對點步進掃描,目 ...
的位置有一個鏡像座位;座位上方的高度在幅值上是一樣的。但是假設(shè)其他有人坐在新郎一方的2排3座。現(xiàn)在在這個點上,帳篷的高度比第1種情況還高。另外當然,在新娘一方也有一個鏡像座位有相同的高度。所以這些座位的每一個在座位上方都有特定的帳篷高度。那個高度構(gòu)成到帳篷的面。但是你注意到在兩側(cè)都有一個座位與柱子所在的位置相對應(yīng);這與方程的根類似,根是復(fù)數(shù)共軛對。注意沒人可以坐在那兒,沒人能真的告訴那個位置的帳篷高度,因為它沒有定義;在ji點(根)位置不能確定系統(tǒng)傳遞函數(shù)的幅值,因為在那個位置它沒有定義。所以這個帳篷類比是系統(tǒng)傳遞函數(shù)的良好描述。函數(shù)的值由座位面上的位置所決定。幅值跟隨位置而變。在系統(tǒng)ji點或 ...
Mirrorcle MEMS掃描鏡技術(shù)概述(2)獨特的四象限傾斜性能幾年前,MirrorcleTech的無框架技術(shù)還處于發(fā)展的早期階段,在一代ARIMEMS1到ARIMEMS6中制造的所有設(shè)備都是單象限(1Q)或單向類型設(shè)備。這指的是每個軸(仍然是兩軸或雙軸2D設(shè)備)能夠使鏡子從靜止位置(0°)偏轉(zhuǎn)到一邊(例如+8°),但不能偏轉(zhuǎn)到另一邊(例如-8°)。因此,典型的一象限(1Q)設(shè)備實現(xiàn)了X軸上0°到+8°的機械傾斜,Y軸上0°到+8°的機械傾斜。今天,在MEMS鏡面行業(yè)的產(chǎn)品中,所有設(shè)備類型都提供四象限(4Q)光束轉(zhuǎn)向能力,通常允許整體更大的總jian端/傾斜角度(兩個軸)。四象限器件的線性 ...
小相等,成“鏡像”。在光學(xué)系統(tǒng)中加入奇數(shù)個平面鏡,則成“鏡像”;在光學(xué)系統(tǒng)中加入偶數(shù)個平面鏡,像與物完全一致。與共軸球面系統(tǒng)組合后,可改變光路方向,但不會改變像的大小和形狀,也不影響像的清晰度。平面鏡還有一個重要的性質(zhì),當入射光方向不變,平面鏡轉(zhuǎn)動α角時,反射光線轉(zhuǎn)動2α角。這個特性可以用來測量微小角度和位移。平行平板所謂平行平板,是由兩個相互平行的折射平面構(gòu)成的光學(xué)元件。平行平板成像具有以下性質(zhì):1.光線經(jīng)過平行平板折射后方向不變。2.平行平板不使物體放大或縮小。3.光線經(jīng)過平行平板后,雖然方向不變,但產(chǎn)生位移。反射棱鏡將一個或多個反射面磨制在同一塊玻璃上的光學(xué)元件稱為反射棱鏡,在光學(xué)系統(tǒng)中 ...
,1 kHz鏡像頻率)。一個箱車集成(蘇黎世儀器,UHFLI)被用來解調(diào)信號。因此,這些特定的相干性和光譜特性產(chǎn)生了一個獨特的發(fā)射器,這在各種中紅外光譜應(yīng)用中是非常有趣的。超連續(xù)鏡消除時間干擾偽影并保持衍射有限的性能,例如在高光譜成像和微光譜學(xué)中。由于這些原因,這些光源在中紅外光譜之外也引起了極大的興趣,例如在紅外光學(xué)相干層析成像中。(a)基于Leukos InF3光纖的中紅外發(fā)射光譜(使用2.4 μ m邊通濾波器)(重復(fù)頻率250khz,平均輸出功率650mw)(b) FTIR干涉圖:(左)對應(yīng)于熱發(fā)射器(a)和(右)所示的超連續(xù)光譜發(fā)射;自相關(guān)函數(shù)分析(使用希爾伯特變換)用于獲取實際相干長 ...
TIR系統(tǒng)的鏡像頻率固定在1 kHz用于表征,因此,用于噪聲評估的測量時間窗口是恒定的。根據(jù)源的脈沖重復(fù)率,車廂積分器(即干涉圖解調(diào)設(shè)備)被單獨配置,以避免在各自的干涉圖中高頻分量的涂抹。這是由于相對于車廂積分器的有效帶寬,鏡面速度高造成的。對于NKT Photonics的超連續(xù)光源,boxcar時間常數(shù)設(shè)置為1024個周期(相當于410μs時間常數(shù)),對于Leukos的超連續(xù)光源,boxcar時間常數(shù)設(shè)置為128個周期(512μs時間常數(shù)),對于Thorlabs SC4500, boxcar時間常數(shù)設(shè)置為32768個周期(655μs時間常數(shù))。由于高信噪比,得到的光譜平滑。考慮到圖1中描述的 ...
。在通過啁啾鏡像對后,脈沖通常是負啁啾的。通過微調(diào)玻璃楔的插入,從而引入正GDD,可以控制啁啾,并且補償來自光束路徑進一步向下的光學(xué)元件對實驗的貢獻。一個薄的SHG晶體,一個濾波器(抑制基波輻射)和一個光譜儀是執(zhí)行測量所需的唯yi額外組件,使這種配置可以直接實施。此外,由于在任何點都沒有光束分裂和重組,因此記錄具有良好信噪比的跡線所需的脈沖能量非常低,允許直接從振蕩器測量脈沖。在放大脈沖的情況下,可以通過僅使用主脈沖能量的一小部分(例如玻璃板/楔形反射)寄生測量。圖3所示。基于SHG的d-scan裝置用于表征少周期脈沖。光通過由啁啾鏡和玻璃楔對組成的壓縮器;引入的GDD通過其中一個玻璃楔子的運 ...
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