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理想光學系統的基本參數焦點、焦平面與光軸上無限遠點相共軛的點稱為焦點。焦點有物方焦點和像方焦點之分，分別用F和F'表示。通過焦點垂直于光軸的平面稱為焦平面。焦平面也分物方焦平面和像方焦平面。主點、主平面垂軸放大率（像高和物高之比）為+1的一對共軛平面，稱為主平面。主平面和光軸的交點稱為主點，物方主點和像方主點分別用H和H'表示。主點到焦點的距離稱為焦距，焦距有正負之分，規定的光傳播方向為正方向。主點指向焦點的方向為光傳播方向時，焦距為正。物方焦距和像方焦距分別用f和f'表示。存在下面關系：當光學系統處于同一介質中時，即n=n’時，物方焦距和像方焦距絕對值相等，符號相反： ...
在二維材料的基面上，晶格周期性與層狀體相中的晶格周期性相同。體和ML (2D)之間的主要區別是沿z方向的破壞對稱。例如，一些著名的TMDCs體態的原子公式為2H-MX2(H:六邊形對稱，M: Mo, W, X: S, Se, Te)，由于z向的破晶對稱，在ML中變為1H-MX2。因此，二維半導體晶體平面可以用兩個平行于基平面的基向量表示。根據單位細胞中矢量的長度和夾角，可以在二維空間中得到4種不同的晶體結構，其中包含5個布拉瓦晶格。應當指出，由于元素周期表中有大量過渡金屬，許多過渡金屬以層狀結構結晶，因此在自然界中可以找到許多tmdc。雖然所有這些層狀化合物都具有相同的MX2化學式，但并不是所 ...
輪廓上的點到基面上直線之間的距離。基線可通過zui小二乘線性回歸法或zui小包容區域法來計算。總的直線度誤差STRt是偏離基線的zui大值之和，即輪廓線峰谷值。對于產品的直線度表示為STRt，物體運動的直線度表示為Txy,Txz。圖1.1直線度相關示意圖式中，S(x)為沿著X坐標方向的直線度誤差。2直線度測量的主要方法（1）直線度基準比較直線度測量是以直線為參考基準，通過機械方法(直尺、直線等)或光學基準(瞄準線、光束等)來實現測 量。應用實例有直線度測試儀、直線度干涉儀、準直望遠鏡及激光準直儀。（2）斜率積分此方法基于局部斜率測量技術和對高度差求和的表面輪廓重建技術。因此，被測量是角度及距離 ...
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