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5nm的Ta緩沖層。為避免氧化，采用了由2nm Cu和4nm Pt組成的蓋層。在硅襯底上測量了15 nm厚的Ni樣品，并對其進行了縱向幾何測量。如果您磁學測量對有興趣，請訪問上海昊量光電的官方網頁：http://www.champaign.com.cn/three-level-150.html更多詳情請聯系昊量光電/歡迎直接聯系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光電產品專業代理商，產品包括各類激光器、光電調制器、光學測量設備、光學元件等，涉及應用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫療、科學研究、國防、量子光學、生物顯微、物聯傳感、激光制造等；可為客戶提供完整的設備安裝，培訓，硬件開發，軟 ...
nm Pt緩沖層上，采用電子光刻技術制備了厚度為15 nm的CoPt3點。它們具有較大的垂直磁晶各向異性和鐵磁行為，其特征是定義良好的平方磁滯回線，矯頑力場為±3.7 kOe。圓點的直徑可在0.2 ~ 1 μm范圍內變化。下面只給出1 μm點的結果。圖1實驗配置能成像納米結構的形貌以及磁化的動力學。圖1為泵脈沖激勵后直徑為1μm的CoPt3點在不同時間延遲下的微分磁化圖像。注意，在當前的測量中，激發不是固定在點的中心，而是在成像過程中與探針光束一起移位。圖a、b和c的序列表明，可以監測磁點磁化的空間動態。了解更多詳情，請訪問上海昊量光電的官方網頁：https://www.auniontech ...
nm Pt緩沖層上，通過電子光刻制成的圓盤的直徑為0.2 ~ 1m，圓盤之間的距離為0.5 ~ 2um。圖2圖2(a)表示時間的變化泵浦激勵密度為4 mJ cm?2，外加磁場設置為3.5 kOe，使靜態磁化達到飽和。插圖描繪了超快磁化動力學的詳細視圖。圖2(b)表示類似的曲線，但激發密度為8 mJ cm?2。初始退磁發生在泵浦脈沖期間，對應于自旋的激光加熱，發生在電子的熱化過程中由于探針脈沖持續時間為180秒，這里的熱化過程沒有得到解決。注意，對于zui大激勵密度[圖2(b)]，初始退磁完成。然后再磁化發生在兩個主要步驟。第1個對應于自旋和晶格之間的平衡。兩種強度對應的時間常數分別為2.5和 ...
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