射和遠紅外漫反射光譜被用于測試固體物質的晶格能的振動特性，可幫助我們從微觀的角度來分析其微觀特性，并且在固有屬性和結構-性質規則方面提供更多的創新視角。拉曼光譜通過使用XperRam Compact（Nanobase）光譜儀在室溫下進行測試，所用激發光源為633nm。NMS陶瓷晶體的拉曼散射光譜如圖1所示，圖1（a）所示樣品的拉曼峰都很相似，基線都很平坦，并且振動峰都很尖銳。根據群論分析結果，空間群為P21/n的晶體應該有24個拉曼有源振動模式（12Ag+12Bg）。然而，在實際的拉曼峰中，只有12個峰被檢測到，這是因為拉曼有源峰的疊加以及設備分辨率的影響。在100-270cm-1位置處，主要 ...

法包括：單次反射光譜分析測試方法，多次反射光譜分析測試方法和激光諧振腔測試方法等。光譜測量方法中有很多因素會影響透射率和反射率精度，這些因素主要包括：D1，被測樣品的口徑大小。當樣品小于光斑尺寸時，需要采用光闌來限制光束的大小。第二，被測樣品楔形角的影響。為減小該因素的影響，可以使光束盡量準直，并且盡量采用大口徑的積分球探測器。第三，光線偏振效應。盡量讓樣品垂直放置，并且加上偏振測試裝置。第四，光譜儀的光譜分辨率。選擇合適的分辨率，濾光片要求較高的分辨率。第五，空氣中某些充分吸收帶的影響。比如空氣中的二氧化碳吸收，解決措施是樣品室里面充氮氣。第六，被測樣品后表面的影響。測試透過率時不可避免引入 ...

其結果被稱為反射光譜。 測量物體的反射光譜也是使用高光譜成像最常用的方法。高光譜圖像提供了目標物體的三維信息高光譜圖像使用成像光譜儀來收集光譜信息，這種設備也被稱為高光譜相機。我們用高光譜相機來測量成千上萬的光譜，而不是單一的譜段。用所采集的光譜數據，行掃描繪成目標圖像；這樣，每個像素都包含完整的光譜信息。 我們可以通過對應位置和光譜信息分析出結果。另外， 還可以從目標物體的任意位置獲取信息， 這意味著會有大量的數據；高光譜數據也被稱作數據立方體，因為高光譜信息是三維的。您可以通過我們的官方網站了解更多的產品信息，或直接來電咨詢4006-888-532。 ...

反射-近紅外反射光譜。鹵素光源為土壤樣品提供一致的照明，接觸式探頭附件以56°的視角測量反射率。將每個樣品放入三個培養皿中（每個培養皿的深度為2厘米，直徑為5厘米）。用刮刀將培養皿中的土壤輕輕地調平，形成光滑的土壤表面，從而保證了較大的光譜信噪比。在光譜采集之前和期間，儀器由100%陶瓷參考面板手動校準。每個土壤樣品獲得30個光譜，并將其平均成一個光譜，用于進一步的數據分析。獲得原始反射光譜，然后轉換為吸光度單位（log10（1 / R），其中R代表反射率數據）。MIR光譜收集在4000-650 cm–1光譜范圍，光譜分辨率和采樣間隔為 4 cm–1和 2 cm–1。在對每個樣品進行光譜掃描之 ...

k模型參數的反射光譜來確定，不斷調整這些數據，直到計算反射率和測量反射率相匹配。n和K的建模有許多數學模型描述波長的函數n和k。為某種薄膜選擇模型時，在準確描述相關波長范圍n和k的情況下，變量越少越好。一般來講，不同材料（如：電介質，半導體，金屬和非金屬）的光學常數隨波長有很大的不同，需要不同的模型來描述。電介質 (K=0）模型通常有三個變量，而非電介質有五個或更多的變量。下面的例子，是兩層薄膜結構的模型，共考慮了18個可變量。柯西：擬合參數：A,B,C（共3個）無定形半導體：擬合參數：（共5，9或13個）晶狀半導體：擬合參數：（共4，7或10個）如果您對膜厚測量有興趣，請訪問上海昊量光電的官 ...

11 測量的反射光譜(放大部分如圖所示)。反射率約0.3%的振蕩/條紋表明存在PR。由于散射，振幅很小。圖12 印制板上PR的測量。峰表示PR的厚度(45.54um)，盡管光譜中的特征很弱，但峰十分清晰。了解更多詳情，請訪問上海昊量光電的官方網頁：http://www.champaign.com.cn/three-level-56.html更多詳情請聯系昊量光電/歡迎直接聯系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光電產品專業代理商，產品包括各類激光器、光電調制器、光學測量設備、光學元件等，涉及應用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫療、科學研究、國防、量子光學、生物顯微、物聯傳感、激光制造等 ...

在拼接鋁上的反射光譜。圖3 采用厚膜算法測量(12.7 μm)的結果-假設對二甲苯X折射率由于我們不知道我們使用的折射率是否正確，我們需要驗證模型與測量數據的擬合。這將使我們能夠更準確地確定折射率和厚度。為了測量涂層，我們首先需要測量未涂層的鋁，以確定聚對二甲苯涂層下的膜堆。測量結果如圖4所示。我們從這個測量中得到了幾個信息:a).有一層氧化鋁層(≈72 nm)b).表面粗糙度為≈30 nmc).該鋁樣品的反射率為標準拋光鋁的約40%。所有這些信息都包含在模型中，以達到良好的擬合，并將用于我們的zui終模型的聚二甲苯堆棧。圖4 該模型與未涂覆鋁的測量結果吻合良好為了檢查我們使用厚膜算法對聚對二 ...

不同點測得的反射光譜圖2 測量結果的實例厚度是通過將硅化層模型擬合到測量數據來確定的圖3 測量結果示例(薄層)。厚度是通過將硅化層模型擬合到測量數據來確定的圖4 測量結果示例(厚層)。厚度是通過將硅化層模型擬合到測量數據來確定的圖5 測量了沿注射器筒的硅層厚度分布圖6 測量硅化層厚度分布-測量旋轉注射器圖7 測量未涂覆(上二)和涂覆/硅化(下三)3ml注射器桶的反射光譜。涂層為~150nm圖8 注射器筒上硅化層厚度測量結果。模型與實測數據的擬合硅化瓶與注射器類似，玻璃小瓶內部是硅化的，以防止藥物與玻璃中的摻雜劑/污染物發生反應。這種涂層的厚度通常比注射器薄。圖9 標有測量點的小瓶表1 測量結果 ...

上水凝膠膜的反射光譜。條紋表示水凝膠層和載玻片中的干擾。可以從頂部或底部進行測量在大多數情況下，MProbe 20 Vis 為水凝膠薄膜提供z佳厚度范圍，但對于較厚的薄膜，可以使用 MProbe20 VisHR（參見規格）MProbe 20 Desktop system MProbe 20 桌面系統基本規格波長范圍：700-1100nm（MProbeVisHR）；400-1000nm（可見光）波長分辨率：<0.3nm(VisHR)、<1nm(Vis)精度：<0.01nm或0.01%精度：<1nm或0.2%測量：< 100ms (VisHR)，< 1ms (V ...

的UVVis反射光譜（200-1000nm）的模擬如圖2 所示。它顯示光譜隨著NA 的增加而逐漸退化。但變化很小并且很容易糾正。然而，對2000nm 氧化物的相同模擬（圖3）顯示NA 的影響更為顯著。圖2 大數值孔徑對200nm氧化物測量反射光譜的影響。線條代表：0、±30deg(NA=0.5)、±50deg(NA=0.76)、±70deg(NA=94) 和±90deg(NA=1)圖3 大數值孔徑對2000nm氧化物測量反射光譜的影響。線條代表：0、±30deg(NA=0.5)、±50deg(NA=0.76)、±70deg(NA=94)和±90deg(NA=1)解決辦法TFCompanion ...