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以取代而展開光刻成像，借助DMD對光源展開反射式調制，把涉及的虛擬數字掩膜移至硅晶圓基片，進而進行曝光。DMD無掩模光刻系統本質上是一種高精度加工平臺，如下圖所示，主要包括投影光源部分、DMD光調制部分、投影物鏡和光可調平臺部分。圖2：法國Microlight3D公司DMD無掩模光刻系統結構圖3、DMD無掩模光刻相比傳統光刻有什么優點？借助DMD無掩模光刻成像的效率是傳統光刻無法比擬的，其光刻成像過程完全受計算機控制，因而便于更改數字虛擬掩膜，并且DMD的成本較低，可以循環使用，極大的簡化了傳統光刻的流程，也大大降低了光刻加工的成本。4、Smartprint UV無掩模光刻系統有什么優勢？Sm ...
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