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中文:電子光學逆設計;英文:electron optical inverse design

解釋
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在給定系統的成像特性、像面位置與放大率的條件下,反求電子軌跡與電位分布,從而確定系統的結構參量和電參量的設計過程。包括通過尋求像差極小值,實現系統的優化設計等。
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