要了解系統(tǒng)的光斑尺寸、陣列以及光束擺動(dòng)對(duì)激光打印機(jī)的影響，并做進(jìn)一步的改進(jìn)。激光打印機(jī)行業(yè)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)非常激烈，因此降低LSU的生產(chǎn)成本極為重要。盡管如此，每一個(gè)LSU都必須進(jìn)行調(diào)整和測(cè)試以確保正確運(yùn)行。常規(guī)的LSU測(cè)試時(shí)間大約需要20分鐘，一種新的儀器測(cè)量技術(shù)可以把測(cè)試時(shí)間減少到幾秒。LSU的生產(chǎn)能力由此增加了十倍以上，因此測(cè)試成本得到顯著降低。4.條形碼掃描和光存儲(chǔ)條形碼掃描和光存儲(chǔ)技術(shù)利用激光光束讀寫信息。與生物掃描技術(shù)和激光打印一樣，光束越小，讀寫信息越精確。然而，為了讓掃描儀處在方便的工作距離范圍之內(nèi)，條形碼讀取器需要光束的操作范圍非常長。光束的束腰區(qū)域的長度稱為瑞利范圍，就是光束直徑 ...

儀的在線測(cè)量光斑尺寸（橢圓度）等功能，由于光斑尺寸的大小跟功率沒有關(guān)系，所以其測(cè)量過程以及操作非常簡(jiǎn)單。只需要在相應(yīng)的測(cè)量距離，調(diào)節(jié)光纖和透鏡之間的距離，使得測(cè)量的光斑尺寸大小一樣（比如測(cè)量距離60mm，光斑尺寸調(diào)到350um），這樣就可以確保損耗最低（小于0.2dB）。二、使用Cinogy相機(jī)式光束分析儀的優(yōu)點(diǎn)1.軟件界面簡(jiǎn)潔清晰，操作簡(jiǎn)單，實(shí)時(shí)測(cè)量光斑尺寸，橢圓度，光束位置等參數(shù)2.節(jié)省新員工培訓(xùn)時(shí)間和成本由于其操作簡(jiǎn)單，對(duì)新員工培訓(xùn)到老員工的熟練度只需要1~2天的時(shí)間，大大降低了對(duì)新員工的培訓(xùn)時(shí)間和成本。3.成本低---含稅價(jià)格低至2萬人民幣用于通信中準(zhǔn)直器在線“調(diào)焦”的CINOGY相機(jī) ...

儀的在線測(cè)量光斑尺寸（橢圓度）等功能，由于光斑尺寸的大小跟功率沒有關(guān)系，所以其測(cè)量過程以及操作非常簡(jiǎn)單。只需要在相應(yīng)的測(cè)量距離，調(diào)節(jié)光纖和透鏡之間的距離，使得測(cè)量的光斑尺寸大小一樣（比如測(cè)量距離60mm，光斑尺寸調(diào)到350um），這樣就可以確保損耗最低（小于0.2dB）。二、使用Cinogy相機(jī)式光束分析儀的優(yōu)點(diǎn)1.軟件界面簡(jiǎn)潔清晰，操作簡(jiǎn)單，實(shí)時(shí)測(cè)量光斑尺寸，橢圓度，光束位置等參數(shù)2.節(jié)省新員工培訓(xùn)時(shí)間和成本由于其操作簡(jiǎn)單，對(duì)新員工培訓(xùn)到老員工的熟練度只需要1~2天的時(shí)間，大大降低了對(duì)新員工的培訓(xùn)時(shí)間和成本。3.成本低---含稅價(jià)格低至2萬人民幣用于通信中準(zhǔn)直器在線“調(diào)焦”的CINOGY相機(jī) ...

測(cè)量焦點(diǎn)位置光斑尺寸、能量分布等摘要：在激光加工領(lǐng)域，如果可以直接知道焦點(diǎn)位置的激光光束的光斑尺寸、能量分布等參數(shù)，對(duì)我們提高加工設(shè)備的生產(chǎn)以及材料加工的效率具有直接性的質(zhì)的提升。以激光切割為例，眾所周知，影響切割質(zhì)量主要來自九個(gè)因素：切割表面粗糙度、切割邊緣垂直度、切割寬度、紋路、毛刺、材料沉積、凹陷和腐蝕、熱影響區(qū)域以及變形。而這些因素直接是由切割位置（焦點(diǎn)位置）的光斑尺寸和光束的能量分布決定的，如果不能直接定量性的知道焦點(diǎn)位置的光斑尺寸和能量分布，往往很難準(zhǔn)確的找到真正的問題原因，對(duì)設(shè)備的生產(chǎn)效率以及售后安裝和技術(shù)支持帶來非常大的阻礙。一、主流方法概述目前，在激光加工領(lǐng)域，主要有三種檢測(cè) ...

較高分辨率（光斑尺寸~2.3um），較大的掃描范圍（200um*200um），振鏡掃描的光點(diǎn)控制方式，可以實(shí)現(xiàn)絕對(duì)同一點(diǎn)的拉曼/光電流/熒光/熒光壽命測(cè)量，為研究團(tuán)隊(duì)提供強(qiáng)有力的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。韓國成均館大學(xué)的 Si Young Lee教授在他的研究Large Work Function Modulation of Monolayer MoS2 by Ambient Gases中使用這套系統(tǒng)，研究了MoS2器件在不同環(huán)境氣體下的工作效率，并最終制出部分鈍化的新型半導(dǎo)體，其理想因子幾乎為1，具有完美的電可逆性，并且通過光電流成像系統(tǒng)測(cè)得耗盡層寬度為~200nm，比體半導(dǎo)體窄了極多。相關(guān)研究成果發(fā)表在A ...

使用非常小的光斑尺寸在像素級(jí)進(jìn)行測(cè)量。一、測(cè)量實(shí)例圖2玻璃上ITO(透明導(dǎo)電氧化物)的測(cè)量-使用參數(shù)化ITO模型確定厚度和光學(xué)常數(shù)圖3 ITO上html層的測(cè)量-測(cè)量了ITO和html的厚度圖4 測(cè)量ITO上的EML層-測(cè)量ITO和EML厚度圖5 測(cè)量ITO上的ETL層-測(cè)量ITO和ETL的厚度圖6 測(cè)量ITO上的LiF層-測(cè)量ITO和LiF的厚度二、Alq3和NPD測(cè)量實(shí)例OLED的一種很有前途的實(shí)現(xiàn)是使用NPD和Alq3聚合物材料。這兩種材料都具有有趣的電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)，這取決于制備條件。因此，測(cè)量光學(xué)常數(shù)色散隨厚度的變化就顯得尤為重要。圖7 采用Alq3和NPD的OLED結(jié)構(gòu)圖8 玻璃 ...

）。但較小的光斑尺寸也有助于減少這種情況。盡可能小的測(cè)量點(diǎn)尺寸并不總是能給出結(jié)果。光斑尺寸需要根據(jù)特定應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化。圖3 使用2um測(cè)量點(diǎn)測(cè)量反射光譜700-1100nm（樣品圖2）。明顯的干涉條紋清晰可見圖4 測(cè)量結(jié)果（數(shù)據(jù)圖3）。峰值表示涂層厚度。它堅(jiān)固而明顯，表現(xiàn)出出色的選擇性（沒有其他厚度）二、厚度不均勻性涂層厚度不均勻性（測(cè)量點(diǎn)內(nèi)）導(dǎo)致反射光譜類似于多層薄膜疊層。如果厚度變化足夠大，則光相位（和干涉）將被擾亂，并且無法進(jìn)行厚度測(cè)量。圖5顯示了覆蓋具有不同厚度T1、T2的兩個(gè)區(qū)域S1、S2的光斑尺寸示例。圖5 測(cè)量點(diǎn)內(nèi)不同厚度的區(qū)域當(dāng)區(qū)域S1、S2的反射率到達(dá)光電探測(cè)器時(shí)，反射率被組合 ...

um建議測(cè)量光斑尺寸范圍53um~4mm55um~9mm激光器模式兼容測(cè)量連續(xù)激光和脈沖激光分析軟件RayCi-LiteRayCi-Lite軟件中分析測(cè)量功能之一“Threshold”即可實(shí)現(xiàn)分析測(cè)量“Uniformity”結(jié)論光束均勻性是光學(xué)設(shè)備性能的關(guān)鍵指標(biāo)，對(duì)科研、工業(yè)以及醫(yī)療行業(yè)都有著深遠(yuǎn)的影響。通過實(shí)際案例分析，本文展示了光束均勻性在不同光學(xué)應(yīng)用中的重要性，昊量光電的CINOGY系列光束分析儀提供了一種高效、準(zhǔn)確的測(cè)試解決方案，幫助用戶確保其光學(xué)設(shè)備能夠達(dá)到性能。上海昊量光電作為德國CINOGY在中國地區(qū)的du家授權(quán)代理商，為您提供專業(yè)的產(chǎn)品銷售和技術(shù)服務(wù)。對(duì)于CINOGY及其產(chǎn)品有 ...

光功率、激光光斑尺寸、調(diào)制頻率以及樣品的各項(xiàng)熱物性參數(shù)。敏感度一般推薦是在樣品制備之前進(jìn)行，根據(jù)熱物性敏感度分析的結(jié)果來設(shè)計(jì)樣品和選擇實(shí)驗(yàn)參數(shù)有利于擬合模型得出更加可靠的結(jié)果。除此之外，熱物性敏感度分析還可以被用作模型簡(jiǎn)化：通過識(shí)別不重要的變量，熱物性敏感度分析可以幫助簡(jiǎn)化模型，減少計(jì)算復(fù)雜度和成本，同時(shí)保持模型的準(zhǔn)確性。二、熱物性敏感度的公式及相關(guān)參數(shù)下面我們以時(shí)域熱反射（Time-Domain Thermoreflectance, TDTR）系統(tǒng)的敏感度分析為例，來理解敏感度分析的具體情況，敏感度的定義為：其中 x 是模型參數(shù)，Y 為鎖相放大器信號(hào)， Sx 為信號(hào)對(duì)該模型參數(shù)x的敏感度，之 ...

c） X射線光斑尺寸為300μm的沉積膜的非原位XPS光譜。結(jié)論在本文中開發(fā)的這種原位研究技術(shù)可以很好的用來研究TMD的生長。該爐可以為CVD生長提供較高的燒結(jié)溫度，同時(shí)能夠與拉曼探測(cè)系統(tǒng)耦合，實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)光學(xué)觀察和拉曼光譜采集。這些原位信息對(duì)揭示單層MoS2在高溫下的形態(tài)發(fā)展和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變非常重要，并將進(jìn)一步加深我們對(duì)TMD-CVD生長機(jī)制的理解。我們證實(shí)，在從金屬氧化物到硫化物的還原反應(yīng)中，低氧化物MoO2因?yàn)槠鋵?duì)成核和質(zhì)量傳輸?shù)呢?zé)任成為一個(gè)關(guān)鍵的中間體，此外，高濃度的S蒸汽促進(jìn)了平面內(nèi)外延生長，因此是高質(zhì)量2D MoS2膜所需要的。另一方面，原位檢測(cè)生長過程的技術(shù)使得在高溫下確定準(zhǔn)確的材料供應(yīng)成 ...