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中文:干涉光刻;英文:interference lithography

解釋
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利用雙光束、多光束的干涉圖樣,一次曝光或者多次曝光實現的一種無掩模光刻工藝。常用于周期圖形的制備,如周期性光柵、孔陣、點陣、柱陣等圖形。
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