考光所形成的干涉圖樣，物光場(chǎng)再現(xiàn)時(shí)，只需用原來(lái)的參考光照射全息元件，即可獲得重建的物光場(chǎng)。全息光鑷就是利用全息元件構(gòu)建的具有特定功能的光場(chǎng)而形成的光鑷。所形成的光場(chǎng)性質(zhì)的不同，全息光鑷會(huì)實(shí)現(xiàn)不同的功能，如單粒子的旋轉(zhuǎn)、多粒子的操控和分選等。最早的全息光鑷由芝加哥大學(xué)Eric R. Dufresne 等于1998 年實(shí)現(xiàn)，他們使用衍射光學(xué)元件(DOE)將準(zhǔn)直的激光束分成多個(gè)獨(dú)立的光束，通過(guò)強(qiáng)會(huì)聚透鏡聚焦后形成多光鑷。構(gòu)建全息光鑷的關(guān)鍵是根據(jù)實(shí)際需要選擇合適的全息元件。傳統(tǒng)生成全息元件的方法是利用相干光干涉制作的，其缺點(diǎn)是所拍攝的全息元件存在衍射效率低、制作費(fèi)時(shí)以及通用性差等，因而它在全息光鑷中并 ...

S相機(jī)會(huì)接收干涉圖樣，進(jìn)行相應(yīng)的計(jì)算分析，從而利用傅立葉變換的相關(guān)計(jì)算，分析出待測(cè)波前的相位分布，以及強(qiáng)度分布等。基于干涉條紋的疏密度敏感于波前的斜率，因此波前傳感器在探測(cè)波前的偏離范圍較傳統(tǒng)的哈特曼傳感器具有更大的優(yōu)越性。波前傳感器的典型應(yīng)用光在傳輸?shù)倪^(guò)程中會(huì)經(jīng)過(guò)不同的介質(zhì)，不同的介質(zhì)由于其構(gòu)成物質(zhì)的分布不均勻，從而導(dǎo)致光的波前產(chǎn)生各種各樣的變化，自適應(yīng)系統(tǒng)便應(yīng)運(yùn)而生。作為自適應(yīng)系統(tǒng)中重要的一環(huán)，波前傳感器的檢測(cè)精度，動(dòng)態(tài)范圍等等因素，都制約著自適應(yīng)系統(tǒng)最終的調(diào)制結(jié)果。由于剪切干涉波前分析儀具有分辨率高，探測(cè)精度高，探測(cè)速度快，操作簡(jiǎn)便，可直接的三維顯示波前畸變的模式等優(yōu)點(diǎn)，目前已經(jīng)得到了廣 ...

可以精確控制干涉圖樣。論文中提出了用于增加干涉區(qū)域，從而實(shí)現(xiàn)高效利用高功率脈沖激光的新方法。此外，DLIP和LIPSS的結(jié)合，使得微結(jié)構(gòu)和亞微結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)效率大大提升，大面積衍射以及超疏水表面的生產(chǎn)面積上升了幾個(gè)數(shù)量級(jí)。實(shí)驗(yàn)中使用AISI 316L鋼作為試驗(yàn)材料，這種鋼在生產(chǎn)生活中有著廣泛應(yīng)用，比較有代表性。激光器使用的是1030nm的HiLASE PerlaB激光器。實(shí)驗(yàn)中的激光器設(shè)定的重復(fù)頻率為1kHz，脈沖長(zhǎng)度為1.7ps，脈沖能量最高3mJ。光源產(chǎn)生的激光被棱鏡分成4路，然后通過(guò)300mm焦距的透鏡在加工面上干涉重合，形成點(diǎn)狀干涉條紋。如圖：下圖a中展示了在AISI 316L不銹鋼上，使 ...

較兩種不同的干涉圖樣，可以實(shí)現(xiàn)其它設(shè)備所不具有的絕對(duì)距離測(cè)量，基于這種獨(dú)特的測(cè)量方式，使得quDIS相對(duì)其他產(chǎn)品位移測(cè)量大，且與信號(hào)對(duì)比度無(wú)關(guān)，由于使用整個(gè)干涉模式來(lái)提取位移信息，因此不存在非線性誤差。規(guī)格參數(shù)分辨率1pm信號(hào)穩(wěn)定性，相對(duì)距離＜0.05nm相對(duì)測(cè)量精度200nm/m信號(hào)穩(wěn)定性，絕對(duì)距離＜200nm絕對(duì)測(cè)量精度2000nm/m相對(duì)/絕對(duì)測(cè)量帶寬25KHz工作距離0.2-5m目標(biāo)速度1m/s激光波長(zhǎng)1535nm關(guān)鍵特性：共焦位移傳感器光纖干涉儀< 0.05 nm信號(hào)穩(wěn)定性絕對(duì)距離測(cè)量工作距離0.2-5m25kHz帶寬3個(gè)傳感器軸柔性光纖傳感頭主要應(yīng)用：慢漂移測(cè)量振動(dòng)分析位置和 ...

較兩種不同的干涉圖樣，可以實(shí)現(xiàn)其它設(shè)備所不具有的絕對(duì)距離測(cè)量，基于這種獨(dú)特的測(cè)量方式，使得quDIS相對(duì)其他產(chǎn)品位移測(cè)量大，且與信號(hào)對(duì)比度無(wú)關(guān)，由于使用整個(gè)干涉模式來(lái)提取位移信息，因此不存在非線性誤差。規(guī)格參數(shù)分辨率1pm信號(hào)穩(wěn)定性，相對(duì)距離＜0.05nm相對(duì)測(cè)量精度200nm/m信號(hào)穩(wěn)定性，絕對(duì)距離＜200nm絕對(duì)測(cè)量精度2000nm/m相對(duì)/絕對(duì)測(cè)量帶寬25KHz工作距離0.2-5m目標(biāo)速度1m/s激光波長(zhǎng)1535nm關(guān)鍵特性：共焦位移傳感器光纖干涉儀< 0.05 nm信號(hào)穩(wěn)定性絕對(duì)距離測(cè)量工作距離0.2-5m25kHz帶寬3個(gè)傳感器軸柔性光纖傳感頭主要應(yīng)用：慢漂移測(cè)量振動(dòng)分析位置和 ...

光產(chǎn)生的隨機(jī)干涉圖樣，它會(huì)嚴(yán)重降低全息圖的質(zhì)量。此外，高強(qiáng)度的相干斑干涉可以損害人類的視覺(jué)系統(tǒng)。通過(guò)對(duì)不同隨機(jī)相位圖生成的全息圖進(jìn)行時(shí)域復(fù)用處理可以實(shí)現(xiàn)：通過(guò)疊加具有不相關(guān)散斑圖的多個(gè)全息圖來(lái)抑制散斑噪聲。這種方法會(huì)降低顯示的幀率，需要使用高速器件保證足夠的顯示幀率。所以數(shù)字微鏡器件(DMD)以其高速工作的優(yōu)點(diǎn)被應(yīng)用于全息顯示的SLM中。DMD是由能夠表示二進(jìn)制狀態(tài)的微鏡組成的，允許DMD被用作二進(jìn)制振幅調(diào)制器并且可實(shí)現(xiàn)10 kHz以上的高幀率。減少散斑噪聲的寬視角全息顯示系統(tǒng)：受結(jié)構(gòu)照明顯微鏡(SIM)的啟發(fā)，本系統(tǒng)采用定向照明來(lái)擴(kuò)展視角。使用光源和濾波器作為一個(gè)陣列，而不是一個(gè)單一的組件。 ...

。由此產(chǎn)生的干涉圖樣的條紋間距和相位都與入射光的波長(zhǎng)有關(guān)，因此分析它們的結(jié)構(gòu)可以精確地確定激光波長(zhǎng)。圖1 斐索波長(zhǎng)計(jì)原理示意圖波長(zhǎng)的粗略估計(jì)可以直接從條紋間距得到，其絕對(duì)精度為百分之一。可以通過(guò)條紋圖樣的相位來(lái)進(jìn)一步改進(jìn)這一初步估計(jì)。在不犧牲絕對(duì)精度的前提下，采用不同自由光譜范圍(FSRs)的多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)具來(lái)細(xì)化波長(zhǎng)的測(cè)量。MOGLabs FZW系列波長(zhǎng)計(jì)使用了四個(gè)這樣的標(biāo)準(zhǔn)具，使得zui終的FSR達(dá)到7.5 GHz，測(cè)定波長(zhǎng)的絕對(duì)精度達(dá)到107分之一。圖2 準(zhǔn)直的單色激光和菲索標(biāo)準(zhǔn)具在成像探測(cè)器上產(chǎn)生干涉圖樣。波長(zhǎng)是通過(guò)結(jié)合四種不同標(biāo)準(zhǔn)具的條紋測(cè)量結(jié)果計(jì)算得到MOGLabs FZW系列波長(zhǎng)計(jì)沒(méi)有 ...

由CCD記錄干涉圖樣。LCOS裝載在壓電位移臺(tái)上，以便調(diào)整光程差，進(jìn)而獲得多組干涉圖樣。根據(jù)獲得的干涉圖組，分析情況獲得三維相位輪廓。調(diào)整在LCOS上加載電壓，獲得從0到255灰度值的圖案，（a）圖為在LCOS上觀測(cè)的圖像。可得到對(duì)應(yīng)的干涉圖樣，（b）圖為L(zhǎng)COS的干涉圖。可看出單張干涉圖出現(xiàn)扭曲，說(shuō)明液晶的相位調(diào)制不是線性的。可在改變光程的步進(jìn)掃描中獲得一組干涉圖樣，進(jìn)而計(jì)算三維相位輪廓，表征LCOS液晶受電壓變量和相位變量的關(guān)系。然后可以調(diào)整電壓變量的增量關(guān)系來(lái)獲得LCOS的灰度值和相位改變量的線性關(guān)系。采用白光干涉，可獲得對(duì)比度高的干涉條紋，與窄帶激光干涉相比，白光干涉可以定位零級(jí)條紋， ...

量方法，記錄干涉圖樣，從中可以重建物體的振幅和相位。該技術(shù)可以以較高的分辨率(2 nm)測(cè)量薄鐵磁樣品內(nèi)部和周圍的磁通量絕對(duì)值。微型場(chǎng)感應(yīng)電子設(shè)備的掃描，如霍爾探測(cè)器或超導(dǎo)量子干涉設(shè)備，是在小眾應(yīng)用領(lǐng)域的進(jìn)一步選擇。如果您對(duì)磁學(xué)測(cè)量相關(guān)產(chǎn)品有興趣，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)上海昊量光電的官方網(wǎng)頁(yè)：http://www.champaign.com.cn/three-level-150.html更多詳情請(qǐng)聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器、光學(xué)測(cè)量設(shè)備、光學(xué)元件等，涉及應(yīng)用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫(yī)療、科學(xué)研究、國(guó)防、量子光學(xué) ...

100nm，干涉圖樣顯著退化。在這些條件下測(cè)量厚度變得具有挑戰(zhàn)性。圖1 不同表面粗糙度的5um聚合物薄膜的反射光譜(700nm-1700nm)（模擬）。對(duì)于光散射，有一個(gè)特征，即在較短波長(zhǎng)下加速退化（強(qiáng)度和干涉）表面粗糙度會(huì)導(dǎo)致光散射增加。這導(dǎo)致鏡面反射率降低和干擾減弱。編織長(zhǎng)度越短，光散射越明顯。因此，長(zhǎng)可見(jiàn)光和近紅外(NIR)波長(zhǎng)范圍(700-1700nm)更適合表面粗糙度的應(yīng)用。表面粗糙度對(duì)反射光譜影響的模擬（圖1）表明，對(duì)于RMS>100nm，干涉圖樣顯著退化。在這些條件下測(cè)量厚度變得具有挑戰(zhàn)性。圖2 粗糙度為0.5umRMS的金屬表面（掩模版直徑為20um）。在20微米的尺度上 ...