極大的應用前景。充分認識全息光鑷的優(yōu)缺點有助于人們在設計全息光鑷時，充分利用其優(yōu)點，克服不足之處，設計出滿足實際需要的性能優(yōu)越的全息光鑷，使之在分子生物學、生物化學、納米制造等領域發(fā)揮其獨特的優(yōu)勢，為交叉學科的研究提供更多有價值的信息。全息光鑷的典型應用由于光和粒子之間有動量或角動量的交換，光場成為一個傳統(tǒng)的非接觸的捕獲、移動、拉伸或旋轉(zhuǎn)微觀粒子的工具。傳統(tǒng)的方法利用波片和偏振器件可以獲得具有確定自旋角動量的光束，利用一定的全息圖可以獲得具有軌道角動量的光束，如渦旋光束等。這使得全息光鑷的應用范圍得到擴大，在微粒的光致旋轉(zhuǎn)、多粒子的操控和復雜運動方面顯示出其獨特的優(yōu)勢。1 新型空心光場捕獲和旋 ...

覷，在這種背景下人們把目光轉(zhuǎn)移到了無掩膜光刻技術。 備受關注的無掩膜光刻技術大概可以分為兩類：1）帶電粒子無掩膜光刻；例如電子束直寫和離子束光刻技術等。2）光學無掩膜技術；例如DMD無掩膜光刻技術、激光直寫、干涉光刻技術、衍射光學元件光刻技術等。 其中DMD無掩膜光刻技術是從傳統(tǒng)光學光刻技術衍生出的一種新技術，因為其曝光成像的方式與傳統(tǒng)投影光刻基本相似，區(qū)別在于使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩膜，其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中，并根據(jù)圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉(zhuǎn)角，并通過準直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面 ...

譜遙感應用場景。與Landsat和Sentinel衛(wèi)星數(shù)據(jù)相似的波段，具有雙倍的頻帶，提高分析能力，使用新的沿海藍色氣溶膠帶，新的波段有利于監(jiān)測淺水環(huán)境，由于新出現(xiàn)的紅、綠、紅邊波段可以深入分析葉綠素效率等。【RedEdge-MX Blue特征波長應用點】①RedEdge-MX Blue擁有水質(zhì)檢測波長效果很好的444納米波長，這種氣溶膠海岸藍波長能很好的區(qū)分水生植被，有利于檢測淺水環(huán)境。②擁有的531nm(14)，在特種的植被生理病變情況中，有很好的效果。是VIS -NIR生理扎根指數(shù)(使用531和560)(光化學反射率指數(shù))使用較長的波長。③再添加的兩個“紅邊”波長705nm(10)和74 ...

光譜成像技術，有時又稱成像光譜技術，融合了光譜技術和成像技術，交叉涵蓋了光譜學、光學、計算機技術、電子技術和精密機械等多種學科，能夠同時獲得目標的兩維空間信息和一維光譜信息。光譜成像技術發(fā)展到今天，出現(xiàn)的光譜成像儀的種類和數(shù)量己經(jīng)具有較大規(guī)模，因而可以從光譜分辨率、信息獲取方式（掃描方式）、分光原理和重構理論等不同的視角對光譜成像技術進行分類。多光譜，高光譜，超光譜，這些在光譜成像領域大家耳熟能詳?shù)拿~看起來僅一字之差，實際上他們到底會有什么樣的區(qū)別呢，我們來看下面這個表格多、高、超光譜的比較從圖中我們可以看出所謂的多光譜，高光譜，超光譜三者之間的區(qū)別主要在于在相同波段下光譜的分辨率以及光譜通 ...

出現(xiàn)強熒光背景,這進一步證明了插層的強摻雜效應.當去掉施加電壓,表面石墨烯顯示出與原始樣品相似的拉曼光譜（圖四c）,也就是說插層過程是可逆的.05 方塊電阻測試多層石墨烯在插層偏壓下的方塊電阻也通過四點電阻率法進行測量（圖五a）.石墨烯層之間得弱范德華力使離子液體的陰離子/陽離子在電壓偏置下插入層中.結果,石墨烯上的電荷密度顯著增加,并且多層石墨烯的薄層電阻從低于2 V的11Ω/□急劇下降至高于3.5V的4Ω/□（圖5b）,這與拉曼測試結果一致.在2 V以下的電壓下,離子積聚在石墨烯-離子液體界面,而2 V以上的離子則插入到表面石墨烯層上.但是,發(fā)射率也可以在2 V以下進行調(diào)制（圖二c）,這歸 ...

1. Silios的CMS-CS多光譜相機由許多巨像素“Macropixel”重復排列構成，每個巨像素“macropixel”有9個小像素組成3X3陣列構成，下面為示意圖。3X3 macropixel2. 軟件界面如下圖所示，分為4個區(qū)域，用4個不同顏色矩形框選出來。菜單欄：每個菜單欄里集成了相機的一組功能。圖標欄：每個圖標就是某一具體功能的快捷方式。設置窗口：通過滑塊拖動等方式調(diào)節(jié)參數(shù)。顯示窗口：實時顯示圖片。3. 各個圖標解釋4. 主要功能界面介紹4.1主窗口設置（Main Setting）設置相機參數(shù)，通過調(diào)節(jié)Pixel clock，F(xiàn)ramerate,和Integration time ...

度激光應用場景下人們對光束質(zhì)量的要求越來越高，下面我將介紹一下可以表征光束質(zhì)量的幾個判斷方式以及它們的適用性。1.聚焦光斑尺寸ωf和遠場發(fā)散角θ用聚焦光斑尺寸ωf衡量光束質(zhì)量是簡單又直觀的方法。但是，聚焦光斑大小是與聚焦光學系統(tǒng)有關。聚焦光斑尺寸越小，光束遠場發(fā)散角越大，準直距離也越短。因此常用聚焦光斑尺寸導出遠場發(fā)散角θ這一判斷依據(jù)。設一聚焦光學系統(tǒng)焦距為f,光闌直徑為D,理想情況下的均勻平面波聚焦后,聚焦光斑（艾里斑）半徑為ωf=1.22λf/D，而遠場發(fā)散角θ=ωf/f。激光遠場發(fā)散角θ表明了激光不顯著發(fā)散開來可傳播的距離，與聚焦能量有關，是常用的光束質(zhì)量判據(jù)。2.光束質(zhì)量因子β光束質(zhì)量 ...

ias去除背景圖片，再次點擊停止使用該功能。Max.Scale和Min.Scale作用是分別濾除高于Max的像素點和低于Min的像素點。鼠標滾輪可以放大或縮小顯示區(qū)域，Reset zoom按鈕復原。5. DM Actuators 單獨控制每個驅(qū)動器，單擊鼠標左鍵一次指令增長5%，按下CTRL鍵再鼠標左鍵單擊一次指令減少5%。所有的指令都必須在-1到1之間。Reset設置所有驅(qū)動器指令為0。滑動鼠標滾輪可以放大或縮小顯示界面，點擊Reset zoom按鈕恢復到默認大小。6. DM History DM History顯示的是最大值和最小值隨時間變化的曲線，紅線是最大值曲線，藍線是最小值曲線。在T ...

受限于測試場景和樣品尺寸，使用成本較高。（2）多通道平行測色光源發(fā)出的光照射在樣品上，經(jīng)樣品透射（或反射）后，通過狹縫進入設備。設備中分光器件將不同波長的光線分到不同的方向角上，經(jīng)凹面反射鏡聚焦到線性CCD上，CCD將光強轉(zhuǎn)換為電信號，每一個CCD單元獲取的光能量，對應樣品光譜中某一波長范圍的光譜能量，從而獲得樣品的透射（反射）光譜。 圖 4 左：Rhea光譜儀的結構示意圖右：測得某樣品的光譜圖這樣獲得的樣品光譜實際上是一系列底邊較窄的柱狀圖，是一種實際光譜的近似，通過計算樣品每一小段波長的光能量，對CIE標準下的XYZ三刺激值產(chǎn)生的作用并求和，就可以獲得樣品的三刺激值。這樣的設備，將經(jīng)過標準 ...

否適應測試場景，通過考量一些儀器普遍標注的，可以作為比較和參照依據(jù)的重要參數(shù)，對購得合適的實驗設備也非常重要。了解一臺測設設備有哪些重要參數(shù)，表示什么樣的含義，由什么影響，對挑選一款合適的測色設備顯得非常重要。一、色坐標精度光電積分測色儀器的色坐標準確度，主要受盧瑟條件限制。在CIE-XYZ色度系統(tǒng)中，樣品色坐標X,Y,Z值的獲得可以由下式表示。式中，S（λ）為光源的光譜能量分布，β（λ）表示物體的光譜幅亮度因數(shù)，x（λ）、y（λ）、z（λ）表示CIE標準觀察者光譜三刺激值譜線。圖 1 左：XYZ值的與標準CIE-XYZ系統(tǒng)譜線的關系 ...