研究氟化鈣的雙折射摘要：本文介紹使用一種PEM光彈調制器，其中PEM的速度為整個的雙折射映射打開了大門 ，通過在信號處理方案中增加一個額外的鎖相放大器，可以進一步提高測量速度。除了速度，PEM技術還提供了較高的雙折射測量精度。業內得到共識的是，氟化鈣CaF2是一種實用的光學材料，用于157納米光刻步進和掃描透鏡。制備高質量的低應力雙折射CaF2一直是一個挑戰。除了這種應力誘導雙折射，約翰·伯內特和他在NIST的同事們發現了CaF2沿<110>在157.6納米處的晶體軸徑為11.2納米/厘米這一消息對于光刻工業來說是一個不受歡迎的意外，因為他們錯誤地認為屬于立方晶體群的CaF2是一種 ...

x邊緣射線的折射不變量，對應的x-RSOS。為了說明這一點，我們將邊緣射線重寫為因此，我們看到量，在相關的x-RSOS中和曲面j上是x邊緣射線的折射不變量。類似地，x主射線在曲面j上的折射不變量為類似地，從如下y相關邊緣射線公式中我們知道曲面j上相關y-RSOS的折射不變量為通過應用上述四個推出來的方程，在由之前推出的方程得到與兩個RSOS相關的拉格朗日不變量從之前我們對變形系統的近軸像性質，我們發現我們可以把近軸變形系統看作兩個相關聯的RSOS，因此我們已知的兩個RSOS的所有結果都可以直接應用于變形系統。我們還發現在一個變形系統中只有兩條獨立的近軸斜光線，但我們更傾向于使用在相關的x-RS ...

顯然，材料的折射率n可以通過測量反射率R來決定。實際情況下，折射率n隨波長變化（就是說，材料會發生色散）。但是因為已經知道很多波長的反射率，在這些波長下的折射率n就可以推算出來，如上面的公式所示。多層界面現在考慮涂在材料上的一層薄膜。這種情形下，薄膜的頂部和底部都會反射光。總反射光量是這兩部分反射光的疊加。因為光的波動性，這兩部分反射光可能干涉相長（強度相加）或干涉相消（強度相減)，這取決于它們的相位關系。而相位關系取決于這兩部分反射光的光程差，光程差又是由薄膜厚度，光學常數，和光波長決定的。當薄膜內光程等于光波長的整數倍時，兩組反射光相位相同，因而干涉相長。當光重直人射到透明薄膜時就是這種情 ...

膜厚測量原理（三）-通過光譜反射確定薄膜特性薄膜反射率的振幅和周期取決于薄膜厚度，光學常數，和界面粗糙度等其它特性。在多于一個界面的情況下，薄膜的光學特性不可能以解析解的形式來算出來，也不可能在每個波長下描述n和k值。實際應用中，一定波長范圍內的n和k由數學模型根據幾個可調節參數模擬得出。薄膜特性通過計算厚度實驗值及n與k模型參數的反射光譜來確定，不斷調整這些數據，直到計算反射率和測量反射率相匹配。n和K的建模有許多數學模型描述波長的函數n和k。為某種薄膜選擇模型時，在準確描述相關波長范圍n和k的情況下，變量越少越好。一般來講，不同材料（如：電介質，半導體，金屬和非金屬）的光學常數隨波長有很大 ...

膜厚測量原理（四）-膜厚測量的方法可變量的個數，光譜反射法的局限光譜反射法可以測量多種類型薄膜的厚度，粗糙度和光學常數。但是，如果只有不到一個周期的反射率振蕩（如：薄膜太?。?，那么就不會產生足夠的信息來確定模型的可變量。這樣，對于非常薄的薄膜，可確定的薄膜特性的數量就會減少。如果試圖解決太多的變量，不可能找到唯①的解答；這種情況下待求變量的多種組合都可能使得反射率計算值與測量值匹配。取決于薄膜和測量的波長范圍，光譜反射法測量的單層薄膜的較小厚度為1納米到30納米。如果還要測量光學常數，除非使用較少變量模型，可測較小厚度增加為10納米到200納米。如果測量超過一層的薄膜的光學特性，較小厚度將進一 ...

鍵。傳統階躍折射率型單模光纖在其中心具有較高的折射率，包層材料具有較低的折射率，以便通過全內反射的機理傳輸光波電磁場，其導模的有效折射率介于芯層中心折射率和包層折射率之間?？茖W家們不斷地對光纖進行探索，經過不懈努力發現了光纖中新的導光機理，新型的空芯光纖不再局限于傳統的內反射原理，其光纖的纖芯折射率可以低于包層折射率，低折射率纖芯的光纖也可以傳輸光波電磁場科學家們發明并提出多種新型特種光纖，如微結構光纖，多空光纖，反諧振光纖等。這些新型的特種光纖不僅在長距離傳輸上有著良好的優勢，并且在生物傳感、氣體傳感等應用上有著很好的性能。圖1.光纖設計結構示意圖1999年，P.St.J.Russell在《 ...

加工和裝調；折射率的變化應能保證挑選到相應的玻璃等，稱為變量邊界條件。變量邊界條件除應考慮工藝條件和材料的可能性，還要考慮到程序處理的方便和不致引起收斂過程的波動。對于各類變量可作如下的限制：曲率半徑一般不需給以限制(因為自動設計中為了確保像差的良好校正，并不會導致半徑的極度變?。?；透鏡的厚度應嚴格限制下限(可令d≥0.1D,D為透鏡口徑）,為了防止透鏡過厚，對上限也可適當提出限制；透鏡的空氣間隔只需限制下限；透鏡的折射率可限制在 1.48～1.85 范圍，并將其分段，以便能與色散或阿貝數相適應。第二類邊界條件是以結構參數為自變量的函數的邊界條件，是對結構參數函數的限制，包括正透鏡的邊緣厚度、 ...

;所在空間的折射率。相關文獻：《幾何光學 像差 光學設計》（第三版）——李曉彤 岑兆豐更多詳情請聯系昊量光電/歡迎直接聯系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光電產品專業代理商，產品包括各類激光器、光電調制器、光學測量設備、光學元件等，涉及應用涵蓋了材料加工、光通訊、生物醫療、科學研究、國防、量子光學、生物顯微、物聯傳感、激光制造等；可為客戶提供完整的設備安裝，培訓，硬件開發，軟件開發，系統集成等服務。您可以通過我們昊量光電的官方網站www.champaign.com.cn了解更多的產品信息，或直接來電咨詢4006-888-532。 ...

義與最后一個折射面切向的平面作為我們的圖像空間參考平面，它將起到與RSOS中出瞳平面相同的作用。在這個平面上，我們將建立我們的x-y坐標，它位于點o處的系統光軸中心。在物體空間中，我們選擇參考平面作為物體平面本身。使用上述定義的坐標原點，考慮以下畸變成像系統:假設我們有一個物點，在近軸物面上。設點是最終圖像空間中的理想圖像點。設Σ'為來自P經過坐標原點O的光線的波前，設S為中心為，半徑為O的參考球。令來自P的光線中的另一條射線r分別在點處與S和Σ'相遇，并在點P’處與最終像面相遇。坐標P’分別為(x ,y, z)， (ξ，η)，且光線r的方向余弦值為(L,M,N）。 為最后一個 ...

地測量厚度、折射率及消光系數。只要將Semiconsoft 系統插入您電腦的USB接口，就能開始測量。整個系統只需要幾分鐘來設定，只需要基本的電腦知識就能測量。這種簡單的硬件系統和直觀的軟件為所有新用戶提供了薄膜知識。從近紅外到紫外 系統能在波長200納米到1700納米 范圍內測量厚度從1納米到1.8毫米的薄膜。Semiconsoft 系統可測量幾乎所有常用材料做成的透光薄膜。容易操作的軟件用戶能很快地掌握Semiconsoft軟件熟悉而又友好的界面。測量一次大約一秒。測量數據，及測量細節能夠非常容易地通過標準Windows文件存盤和輸出。另外，公開的 NET 程序非常 容易地讓其他軟件來控制 ...