c干涉儀對(duì)雙折射或地形效應(yīng)等互反效應(yīng)不敏感。這些影響通常會(huì)導(dǎo)致Kerr-SNOM圖像中的偽影。為了測(cè)試新的可變溫度UHV-Sagnac-SNOM的性能,人們使用了一小塊垂直磁化和大Kerr旋轉(zhuǎn)(紅光約0.41)的TbFeCo磁光(MO)盤。表面輪廓由1毫米寬的軌道組成,由0.6毫米寬和100毫米深的凹槽分隔。沿著磁道,等間距的磁位與相反的磁化被熱磁寫入。圖2圖2(a)和(b)顯示了MO盤的Sagnac-SNOM圖像以及同時(shí)記錄的地形圖像。在地形圖像中可以清晰地檢測(cè)到軌跡和凹槽,這表明在目前的設(shè)置下,尖端到樣本的距離控制在特高壓下工作得很好。圖像中的小波紋結(jié)構(gòu)是由噪聲激發(fā)的尖端到樣品的振動(dòng)引起的 ...
變化。12個(gè)折射率中的2個(gè),即光散射的來(lái)源,是局部分子密度的度量,因此也是生物樣品結(jié)構(gòu)的度量。除了光學(xué)相干斷層掃描(OCT)技術(shù)外,樣品的彈性散射很少用作生物成像的對(duì)比源。OCT依靠樣品的紅外光后向散射產(chǎn)生組織的橫截面圖像。在分辨率和穿透深度方面,OCT介于超聲成像和光學(xué)顯微鏡之間,并且由于其通用性已成為醫(yī)學(xué)許多領(lǐng)域的重要工具。然而,當(dāng)相干光的彈性散射用于OCT或其他成像方式時(shí),由于組織和其他細(xì)胞復(fù)合物典型的非均勻折射率,在穿過(guò)樣品時(shí)產(chǎn)生復(fù)雜的干涉場(chǎng)。由于其顆粒狀外觀,該領(lǐng)域被稱為“散斑圖案”,對(duì)于成像應(yīng)用,它通常被認(rèn)為是有害的,因?yàn)樗B加了感興趣的特征。在某些應(yīng)用中,當(dāng)應(yīng)用波前整形時(shí),可以利 ...
通路中空氣的折射率,n(z1-z2)表示兩個(gè)光路之間的差異而不是幾何距離差。可見(jiàn)光的波長(zhǎng)一般為400~700nm,因此測(cè)量的基本單位是200~350mm。(因?yàn)榘氩ㄩL(zhǎng))2.測(cè)長(zhǎng)干涉儀的基本類型(1)泰曼一格林干涉儀泰曼一格林干涉儀是一種使用準(zhǔn)直光束的邁克爾遜干涉儀。其光路本質(zhì)和邁克爾遜干涉儀相同,都是采用分束器分光,兩束光再次重合進(jìn)行干涉的方法。光路圖如下:當(dāng)測(cè)試對(duì)象通過(guò)一個(gè)平面鏡時(shí),每條入射光線的的傾斜角都是相等的,可看到的整個(gè)區(qū)域呈現(xiàn)相同的照明度,光程差為mλ/2時(shí)是亮條紋,光程差是(m+1/2)λ時(shí)為暗條紋,此時(shí)m是一個(gè)整數(shù)。當(dāng)一個(gè)平面鏡傾斜時(shí)這種情況也將改變。此時(shí),直條紋出現(xiàn)在觀察區(qū)域 ...
敏玻璃內(nèi)部的折射率,通過(guò)這種全息曝光方法,實(shí)現(xiàn)了具有相位調(diào)制功能的衍射體布拉格光柵(VBG)。體布拉格光柵(VBG)根據(jù)具體應(yīng)用的差異,可分為以下幾個(gè)主要產(chǎn)品:體布拉格光柵反射鏡(RBG) ---波長(zhǎng)鎖定、線寬壓窄;啁啾體布拉格光柵(CVBG) ---fs/ps的脈沖展寬和壓縮;超窄帶濾光片(BPF) ---超窄線寬濾波;陷波濾光片(BNF) ---超低波數(shù)拉曼測(cè)量及湯姆遜散射;透射式布拉格光柵(TBG) ---角度放大;反射式-超窄帶寬濾光片,歡迎客戶前來(lái)咨詢了解。產(chǎn)品主要特點(diǎn):1.超窄帶寬(FWHM可低至20pm);2.高衍射效率(upto 95%);3.偏振不相關(guān);4.物理性能穩(wěn)定,不易 ...
:YAG激光折射后,陶瓷表面微觀結(jié)構(gòu)的改變時(shí)影響粘接性能改變的基礎(chǔ),而激光刻蝕不引起陶瓷本身結(jié)構(gòu)的破壞,是其提高粘接性能的前提。2.2粘接強(qiáng)度粘接強(qiáng)度是評(píng)價(jià)修復(fù)體粘接性能的主要指標(biāo),也是目前學(xué)者對(duì)粘接性能研究zui多的內(nèi)容。研究表面,單獨(dú)使用Er:YAG激光處理不同組分組成的陶瓷表面,便可獲得比傳統(tǒng)方法高的粘接強(qiáng)度,可作為一種臨床上陶瓷的表面處理方法。通過(guò)對(duì)比不同脈沖能量的Er:YAG激光照射對(duì)Empress 2陶瓷的粘接效果,當(dāng)脈沖為300 mJ時(shí),陶瓷間的粘接強(qiáng)度高于氫氟酸刻蝕。對(duì)于使用不同燒結(jié)時(shí)間制作的氧化鋯陶瓷,Er:YAG激光照射均可增加粘接強(qiáng)度。結(jié)語(yǔ):Er:YAG激光在陶瓷材料粘接 ...
鏡之間介質(zhì)的折射率(空氣為n0= 1;浸沒(méi)油N0≈1.5)。α和n值越高,物鏡收集的衍射光階數(shù)越多,分辨率越高。可用的zui高數(shù)值孔徑為1.4,用100倍放大率的油浸物鏡獲得。使用這種物鏡和藍(lán)光進(jìn)行照明,可以分辨窄至150 nm的區(qū)域。更小的磁性物體,比如十納米大小的疇壁,也可以通過(guò)數(shù)字對(duì)比度增強(qiáng)變得可見(jiàn),但它們的圖像會(huì)被衍射放大。zui近有研究表明,克爾信號(hào)也可以從寬度僅為30納米的納米線中獲得。如果您對(duì)磁學(xué)測(cè)量有興趣,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)上海昊量光電的官方網(wǎng)頁(yè):http://www.champaign.com.cn/three-level-150.html更多詳情請(qǐng)聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊 ...
在磁性材料中折射率不同,從而使得兩種偏振光在磁性樣品中傳播的過(guò)程中產(chǎn) 生了光程差,進(jìn)而產(chǎn)生相位差,從樣品中出射后兩種偏振光合成的透射光就表現(xiàn) 為偏振面較入射光來(lái)講發(fā)生了一定角度的偏轉(zhuǎn)。塞曼效應(yīng)是指在外磁場(chǎng)中,光源發(fā)出的光的各能級(jí)譜線在磁場(chǎng)下進(jìn)一步分裂 成更多條,并且分裂出的各譜線的間隔和外磁場(chǎng)的大小成正比的磁光效應(yīng),該效 應(yīng)的原理是原子的自旋磁矩和軌道磁矩在外磁場(chǎng)的作用下能級(jí)會(huì)發(fā)生進(jìn)一步的 分裂。塞曼效應(yīng)的發(fā)現(xiàn)直接推動(dòng)了量子力學(xué)的完善并導(dǎo)致自旋這一自由度被發(fā)現(xiàn)。圖1.三種克爾效應(yīng)示意圖,從左至右依次為極向、縱向和橫向克爾效應(yīng)則是說(shuō)當(dāng)偏振光在磁性樣品表面被反射后,反射光的偏振面相對(duì)入射光發(fā)生一定 ...
有藍(lán)寶石的雙折射效應(yīng)。三、具體實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)采用YAG晶體,中心波長(zhǎng)1030 nm的飛秒激光器,脈寬約為400 fs,重復(fù)頻率為300 kHz。利用顯微物鏡將激光束聚焦于樣品表面,光斑大小3.5 um。樣品的移動(dòng)通過(guò)高精度三維電控位移臺(tái)實(shí)現(xiàn)。對(duì)YAG晶體樣品表面的不同位置進(jìn)行輻照,所有實(shí)驗(yàn)均在常溫、常壓的空氣中進(jìn)行。單脈沖作用后的燒蝕形貌如圖所示,在單脈沖燒蝕下,損傷坑的直徑隨著脈沖能量的增加而增加而增加。在飛秒激光作用后,在燒蝕坑內(nèi)和周圍形成了一定數(shù)量的納米顆粒。圖1.單脈沖燒蝕形貌記錄多脈沖作用下,孵化效應(yīng)在燒蝕過(guò)程中扮演重要角色。在介電材料和半導(dǎo)體材料中,由外部激光作用引起的晶格缺陷,可以 ...
從而引起材料折射率和增益系數(shù)的改變,也會(huì)使激光器的發(fā)射波長(zhǎng)以階梯形式跳躍變化。而MOGLabs的激光器控制器可以很好的解決這一問(wèn)題,它是一款超低噪聲半導(dǎo)體激光器控制器,一款集電流控制、溫度控制、頻率鎖定等功能為一體的ECDL控制器,集八大功能于一體,提供用于驅(qū)動(dòng)ECDL激光器和將其鎖定到外部參考源的重要部件。每一臺(tái)DLC控制器都包括:微分低噪聲探測(cè)器,700kHz帶寬;超低噪聲二極管電流源,< 100pA/√Hz,直流至1MHz;帶有珀?duì)柼鸗EC驅(qū)動(dòng)的溫度控制器;掃描振蕩器;一對(duì)高壓壓電驅(qū)動(dòng);解調(diào)器(鎖相放大器);微分光電探測(cè)器;交流調(diào)制源;伺服反饋回路濾波電路;人體工程學(xué)控制,包括5位 ...
于確定它們的折射率、電導(dǎo)率和其他基本參數(shù)。挑戰(zhàn)實(shí)現(xiàn)高性能太赫茲時(shí)域光譜系統(tǒng)的關(guān)鍵挑戰(zhàn)之一是光學(xué)延遲掃描。傳統(tǒng)的太赫茲系統(tǒng)一直使用機(jī)械光學(xué)延遲線,但這樣通常需要在掃描速度和掃描范圍之間進(jìn)行權(quán)衡。長(zhǎng)距離的高速移動(dòng)是這些機(jī)械設(shè)備的重大挑戰(zhàn)。太赫茲時(shí)域光譜系統(tǒng)經(jīng)常應(yīng)用于檢查厚度的光學(xué)系統(tǒng)之中,其中反射光需要被較大的光學(xué)延遲所分開(kāi),同時(shí),系統(tǒng)也需要足夠的光譜分辨率來(lái)解析光譜特征。快速的光學(xué)延遲掃描在滿足這兩個(gè)要求方面發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。通過(guò)快速光學(xué)延遲線,太赫茲系統(tǒng)可以部署在快速點(diǎn)掃描應(yīng)用和需要在短時(shí)間內(nèi)檢查大表面區(qū)域的工廠中。在這些場(chǎng)景中,機(jī)械的光學(xué)延遲通常難以實(shí)現(xiàn)高吞吐量的性能要求。采用單腔雙梳的 ...
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