散。另外透射光學材料還應有高度的光學均勻性，化學穩定性和良好的物理性能，同時在材料中不應有明顯的氣泡，條紋和內應力等缺陷。這些都對光學成像有缺陷。透射光學零件應用的材料一般有光學玻璃，光學晶體以及光學塑料，其中又以光學玻璃使用最多。光學玻璃能透明的波段大約為0.35到2.5微米，在0.4微米以下時，已顯示出對光的強烈吸收。光學玻璃可以分為冕牌和火石兩大類，各大類又有好幾種類，一般而言，冕牌玻璃的特征是低折射率低色散，火石玻璃是高折射率高色散。隨著激光技術和光探測技術的不斷發展，各種激光光學系統和紅外光學系統以及其他應用特定波長的光學系統越來越多，由于這些光學系統的應用波段不一定式可見光波段，像 ...

的微結構引入光學材料，徹底改變了材料的光學特性。它可看作是半導體物理學成果在光子領域中的拓展。實際上，半導體的能帶結構是電子和晶格引起的周期性電動勢之間相互作用的結果。通過求解周期性電動勢的薛定諤方程，就能得到被禁帶所分離的電子能量狀態。類似地，如果把這種周期性變化的電動勢用周期性變化的介電常數，即折射率來替換，同時，把薛定諤替換成經典的電磁波波動方程，就能獲得光子晶體中的光子帶隙。早在1987年，多倫多大學的Sajeev John和貝爾通信實驗室的Eli Yablono-vitch就預言了光子帶隙，光子帶隙成為20世紀90年代初期光子學領域的研究熱點。他們的研究設想是通過建立合適的波導結構， ...

圖作為非線性光學材料，非線性系數是一項重要的光學參數，它決定了材料的相位匹配的波長。通過第一性原理計算可得雙折射的系數，并且結果表明三個化合物都是負的雙光軸晶體，在1064nm的激發光下Δn=nz-nx，其雙折射系數分別為：0.070, 0.090和0.060，此數據表明上述三個化合物的雙折射系數大于已經報道的磷酸復鹽晶體。圖3(a)、(b)和(c)分別為化合物K2(TeO)P2O7、Rb2(TeO)P2O7和Cs2(TeO)P2O7的雙折射系數譜圖您可以通過我們的官方網站了解更多的產品信息，或直接來電咨詢4006-888-532。 ...

常見光學精密測量技術1.光斑分析和測量技術光斑測量與激光技術是緊密相關的，在激光器行業有著非常廣泛的運用，激光光斑測量是評價激光光束質量的主要手段，是指導激光設計，制造和裝配的重要依據。評價激光光束質量的指標主要涉及這些方面：1.光束的發散角和傾斜度。發散角是用來衡量光束從束腰向外發散的速度，可以用來表征激光的準直性能。光束傾斜度是表征光束偏離出光面垂軸方向的程度，圖1所示為表征激光光束的常見參數。2.光斑尺寸。測量光斑不同徑向的直徑大小，表征光斑尺寸，可以用于評估激光作用范圍，特別在激光加工領域有著廣泛的運用。圖2所示為激光光斑在空間傳播的光斑大小演變圖，可以計算激光光束的數值孔徑和Z小光斑 ...

四項技術是：光學材料（如玻璃和聚合物）、換能器（包括膠片和電子探測器，人眼除外）、光源（從蠟燭、弧光燈、白熾燈到LED和激光器）和處理技術（通過生物、電子或其它的處理技術）。今天所有的成像器材都是基于這四項技術制造而成的。在這一章節，我們根據當時對技術的理解以及技術水平劃分了5個成像周期。在這一章節討論了4個周期，最后一個周期是計算成像，后續章節描述。每個周期的年代劃分是粗略劃分的，并不意味著固定不變。第一個周期是古代，在此時，盡管已經有了玻璃，但是工匠們缺少理解和使用它們的知識。玻璃僅僅被用作裝飾、窗戶、或像碟子和杯子這樣的東西。下一個周期從1600到1840年，是光學科學和工程的開端。多鏡 ...

a值以及某些光學材料的透過率和反射率等應用。還可以做為標準，來校正機差，以及校正成像亮度計參數。不僅是科研，也是工廠中亮度，色度測量解決方案的不錯選擇。四、Photo Research 亮度計系列產品概述：PR-655 CCD探測器 128位線性TEC制冷 波段：380-780nm 帶寬：8nm 亮度范圍：0.68-102,774nitsPR-670 CCD探測器 256位線性TEC制冷 波段：380-780nm 帶寬：8nm 亮度范圍：0.034-8,565,000nitsPR-680 CCD/PMT雙路探測器 256位線性TEC制冷/光電倍增管 波段：380-780nm 亮度范圍：0.00 ...

是一種實用的光學材料，用于157納米光刻步進和掃描透鏡。制備高質量的低應力雙折射CaF2一直是一個挑戰。除了這種應力誘導雙折射，約翰·伯內特和他在NIST的同事們發現了CaF2沿<110>在157.6納米處的晶體軸徑為11.2納米/厘米這一消息對于光刻工業來說是一個不受歡迎的意外，因為他們錯誤地認為屬于立方晶體群的CaF2是一種各向同性材料。在本質雙折射的材料中，線偏振光沿著不同的晶體軸經歷不同的折射率。雙折射也可以引入外部或殘余應力在大塊材料。在非常短的波長(即157 nm)， CaF2顯示應力誘導雙折射和更強的內稟雙折射(也稱為空間色散雙折射)。CaF2中的雙折射為高性能的印刷 ...

用特殊色散的光學材料，如螢石（CaF2）或特種光學玻璃。這些材料的折射率均很低，又要校正色球差，故復消色差物鏡的結構要較消色差物鏡復雜得多。下圖5為一數值孔徑為1.25 的100倍復消色差物鏡，其中陰影部分是螢石透鏡。由于這種物鏡倍率色差較大，需與相應的補償目鏡配合使用。圖5三、平場消色差物鏡和平場復消色差物鏡由于復消色差物鏡仍然具有較大的像面彎曲，不能在平的接收面上給出整個視場的清晰像，為作顯微投影或顯微攝影，zui好應用平場物鏡。這種物鏡的主要問題是設法減小或校正匹茲凡和，辦法是在系統中加入彎月形厚透鏡或正負光焦度分離的薄透鏡成分，或二者兼用，因此必然導致結構的復雜化。下圖6所示為一數值孔 ...

在外加電場時光學材料折射率的變化。折射率的變化量與電場強度、其方向和光的偏振率成正比。制造集成光調制器的shou選材料是鈮酸鋰（LiNb3）。如果使用長度為L的電極將電場施加于電導，則電極之間區域的折射率會發生變化，從而產生引導光的相移，相移與所施加的電壓會呈線性關系。圖2：相位調制器圖3：相移這相當于幾伏特，在給定的電極幾何形狀下；對于較長的波長，它比較短的波長要高，例如，可以期望在紅色區域為3V（635nm），在電信波長范圍內（約1550 nm）為10 V。由于非常快速的電光響應，較低的控制電壓和使用復雜的電極幾何形狀，它可以在千兆赫茲范圍內的頻率上實現調制。將相位調制器插入集成的Mach ...

公認為在創新光學材料設計中是重要的方面，包括但不限于納米和微尺度上的波導系統和光磁存儲設備——滿足對更有效和更小型化光學系統的需求。圖1a示出了在將樣品調節到適當焦點之后記錄的晶體的明場圖像。可以清楚地看到晶體的針狀形態。圖1b，c顯示了在UV激發下，用全視圖（圖1b）或局部限制（圖1c）照明的相同晶體的圖像。在寬紫外線照射下，晶體不同面的發射亮度差異立即可見。受限照明可以用作一種選擇，主要用于研究晶體中能量或光傳輸的任何影響，這可能會觸發類似波導的行為。在這種情況下，在不直接處于激發下的點中檢測到強發射。這表明有效的能量遷移通過晶體發生。從獲取的高光譜立方體數據中，我們可以進一步得到代表特定 ...